วิธีผลิตชิปล้ำยุคที่สุดในโลก (Microchips)
LSVคลังสมองออนไลน์ "ปีที่21"
ตุลาคม 12, 2024, 02:34:15 PM *
ยินดีต้อนรับคุณ, บุคคลทั่วไป กรุณา เข้าสู่ระบบ หรือ ลงทะเบียน

เข้าสู่ระบบด้วยชื่อผู้ใช้ รหัสผ่าน และระยะเวลาในเซสชั่น
 
   หน้าแรก   ช่วยเหลือ เข้าสู่ระบบ สมัครสมาชิก  
หน้า: [1]   ลงล่าง
  พิมพ์  
ผู้เขียน หัวข้อ: วิธีผลิตชิปล้ำยุคที่สุดในโลก (Microchips)  (อ่าน 333 ครั้ง)
eskimo_bkk-LSV team♥
.กลุ่มผู้มีน้ำใจงาม..
member
*

คะแนน1887
ออฟไลน์ ออฟไลน์

กระทู้: 14206


ไม่แล่เนื้อเถือหนังพวก


อีเมล์
« เมื่อ: กันยายน 27, 2024, 06:51:09 AM »

โค๊ด:
https://youtu.be/4h5MdY_rDHM?si=Ngw7FlqABeW2aGk2

ความเจริญก้าวหน้าที่ทำให้ชีวิตคุณสะดวกสบายมากขึ้นทุกวัน
เพราะชิปตัวเล็กนิดเดียว
ซึ่งมีการผลิตชิปด้วยเทคโนโลยีล้ำยุคที่สุดในโลก

0:00 วิธีผลิตชิปล้ำยุคที่สุดในโลก (Microchips)
0:38 ชิปทำงานอย่างไร?
1:43 การผลิตชิปด้วย Photolithography
5:28 การผลิตชิปด้วย EUV

ถ้าคุณซูมเข้าไปดูข้างในชิป จะพบความมหัศจรรย์
เหมือนเมืองขนาดใหญ่ที่มีตึกมากมายซ่อนอยู่ซ่อนอยู่
โดยส่วนต่างๆ มีช่องว่างซึ่งเป็นระยะห่างเล็กกว่าเส้นผมคุณถึง 20,000 เท่า
สร้างจากเครื่องพิมพ์ 3 มิติ ด้วยการยิงแสงเลเซอร์
ไปที่หยดดีบุกเล็กๆ ซึ่งลอยอยู่ในอากาศ
ด้วยความเร็วถึง 50,000 ครั้ง/วินาที
แล้วทำให้เกิด plasma ที่มีความร้อนสูงถึง 5,500 องศาเซลเซียส

สรุป
ชิป คือกุญแจสำคัญ สู่ความก้าวหน้าของโลกอนาคต
เพราะเราต้องการชิปที่ฉลาดขึ้น เร็วขึ้น
โดยใช้พลังน้อยและมีขนาดเล็กลง เสมอ
เพื่อทำให้ชีวิตคุณง่ายขึ้นและปลอดภัยขึ้น
ทำให้การพัฒนาเทคโนโลยีผลิตชิป
เป็นเรื่องที่น่าสนใจและน่าติดตามมากครับ
ว่าใครจะก้าวขึ้นเป็นผู้นำโลกคนต่อไป

 ping!

อ้างถึง
Photolithography  คือ

    วิธีการในการผลิตแบบจากใหญ่ไปเล็กนี้ ตัวอย่างเช่น   
วิธีการลิโทกราฟีแบบใช้แสง (photolithography) 
เป็นเทคโนโลยีหลักในการสร้างวงจรไมโครอิเล็กทรอนิกส์ในปัจจุบัน 
โดยเฉพาะการผลิตชิพคอมพิวเตอร์
โดยมีการถ่ายแบบย่อส่วนจากแม่พิมพ์ (หรือที่เรียกว่าหน้ากาก)
ด้วยแสงลงบนพื้นผิวที่ต้องการจะสร้างวงจร
และนำไปผ่านขั้นตอนทางเคมีต่างๆ ที่ไปกัดก่อนพื้นผิวให้เป็นลวดลาย
เหมือนแบบที่ถ่ายไว้แล้ว
(คล้ายกับการถ่ายภาพแล้วไปอัดรูปลงบนกระดาษ)
แต่การสร้างในลักษณะนี้มีข้อจำกัดทางเทคโนโลยี คือ
การใช้แสงธรรมดาไม่สามารถให้รายละเอียดคมชัดได้ในระดับนาโน
จึงมีการพัฒนาวิธีอื่นๆ ขึ้นมา เช่น การใช้แสงอัลตร้าไวโอเลต (UV)
หรือใช้รังสีเอ็กซ์ (x-ray) นอกจากนั้นยังมีการประดิษฐ์เครื่องมือ
ที่ใช้ลำแสงอนุภาคโลหะ  มาเป็นเสมือนใบมีดที่ไปสลักสิ่งของ
ให้เป็นรูปร่างระดับนาโนตามต้องการได้
 
          ตัวอย่างง่ายๆ ในชีวิตประจำวันที่สามารถเห็นได้
ที่เป็นกระบวนการผลิตตามแนวทางแบบบนลงล่างนี้ 
อย่างเช่น  การแกะสลัก  หรือการบดย่อยวัตถุต่างๆ
จากที่มีขนาดใหญ่ให้เล็กลง  เป็นต้น

EUV คือ

การพิมพ์หินด้วยแสงอัลตราไวโอเลตแบบเอ็กซ์ตรีม
( EUVLหรือเรียกสั้นๆ ว่าEUV ) เป็นเทคโนโลยีที่ใช้ในอุตสาหกรรม
เซมิคอนดักเตอร์ในการผลิตวงจรรวม (IC)
ซึ่งเป็นประเภทของการพิมพ์หินด้วย แสง ที่ใช้ แสง อัลตราไวโอเลต
แบบเอ็กซ์ตรีม (EUV) เพื่อสร้างลวดลายที่ซับซ้อนบนเวเฟอร์ซิลิกอน

ณ ปี 2023 ASML Holding
เป็นบริษัทเดียวที่ผลิตและจำหน่ายระบบ EUV สำหรับการผลิตชิป
โดยกำหนดเป้าหมายที่โหนดกระบวนการ 5 นาโนเมตร (nm) และ3 นาโนเมตร

ความยาวคลื่น EUV ที่ใช้ใน EUVL มีค่าใกล้เคียง 13.5  นาโนเมตร (nm)
โดยใช้พลาสมาหยดดีบุก (Sn) ที่ถูกกระตุ้นด้วยเลเซอร์
 
(ไอออน Sn ในสถานะไอออนตั้งแต่ Sn IX ถึง Sn XIV
ให้ค่าพีคสเปกตรัมการปล่อยโฟตอนประมาณ 13.5 นาโนเมตร
จากการเปลี่ยนสถานะไอออน ของ
4p 6 4d n – 4p 5 4d n +1 + 4d n −1 4f [ 1 ] )

เพื่อสร้างรูปแบบโดยใช้หน้ากากโฟโตสะท้อนแสง
เพื่อเปิดเผยพื้นผิวที่ถูกปกคลุมด้วยโฟโตเรซิสต์


บันทึกการเข้า

ช่างเล็ก(LSV)
Administrator
member
*

คะแนน1346
ออฟไลน์ ออฟไลน์

กระทู้: 18928


คิดดี ทำดี ชีวิตมีแต่สุข


อีเมล์
« ตอบ #1 เมื่อ: กันยายน 27, 2024, 08:51:33 AM »

 THANK!! wav!!
บันทึกการเข้า
หน้า: [1]   ขึ้นบน
  พิมพ์  
 
กระโดดไป:  

Powered by MySQL Powered by PHP Powered by SMF 1.1 RC2 | SMF © 2001-2006, Lewis Media

lsv2555Please follow the new website at https://www.pohchae.com

Valid CSS!